很快，正月十五就过了，按照东北的习俗，过了十五，这个年才算过完。



不过这一般只是小城市的规矩，对于那些大城市来说，上班以后，就开始了快节奏的生活，节日的味道自然就淡了许多。



不管杨青在家里待得怎么舒服，但是也到了回去金市的时间，那边不光是赵予熙在催促，就连威华那边，也准备尝试着流片了。



杨青看过了威华的流片方案，基本上就是按照杨青提供的公版设计，没有多少的改动，也不是他们急需的手机处理器芯片。



这也是杨青意料之中的事情，虽然28纳米的制程，给设计减少了很多的难度，不过过于复杂的真3d晶体管设计，还有那些鳍片有些奇怪的排列，都是很让人难以理解的地方。



初步估算，利用杨青提供的架构资料，还有全新的设计软件，想把整个架构吃透，能够随心所欲，设计整个芯片，至少也要一年的时间。



这也是建立在设计软件eda足够先进，可以随时在线答疑的基础上。



不然这个时间还要往后推不知多久。



看上去这个时间很久，不过看看威华得到授权的arm7，这个公版设计后的表现，大家就知道了。



海思成立已经有了十几年的时间，很长的时间都以备份的形势存在，等到他们研究出麒麟系列智能手机芯片上市，已经是2009年了。



而从麒麟系列芯片诞生，再到真正追上主流的高通和四星的麒麟9000系列，时间已经过去差不多十年了。



由此就可以看出，芯片研发的困难，一年时间掌握一个全新的架构，这不是慢了，而是足够快，几乎可以让人骄傲了。



事实上，要不是杨青的存在，他们也确实值得骄傲。



他们几乎可以确定，杨青就是自己一个人，搞定这个芯片架构的，还设计出了一个在主流芯片性能之上的产品。



这样的差距，已经可以让许多的业内人士，生不起追赶的底气来。



威华继上次的二十万片芯片后，再次订购了五百万片的芯片产品，此时整个生产车间，正在全力赶工着。



为了应付威华的订单，杨青也需要从外界订购几台光刻机，自然不可能是euv，这样采用极紫外激光光源的顶级光刻机，不过倭国的尼康产的193纳米深紫外光刻机duv，也是一个不错的选择。



采购光刻机，杨青很自然地就选择了威华的渠道。



哪怕杨青在国内已经小有名气了，不过他的身份还是不能和尼康对等，他也没有直接联系的渠道，一个订单，就能拖延上几个月时间才能定下，更别说交付了。



国内的28纳米光刻机虽然已经下线，但是他的产能明显不足，至少轮不到杨青采购。



尼康也曾是世界光刻行业的龙头，不过在世纪初的时候，他一系列操作失误，终于倒在了平平无奇的新对手，阿斯麦带来的浸润式光刻等一系列的新技术上。



技术上一步落后，就是步步落后，随着光刻机的用户减少，尼康对于未来的研发投入也在减少。



更别说阿斯麦不断拉拢各大芯片设计代工企业，并利用米国打压倭国半导体产业的机会，几乎聚拢了全世界的与光刻机息息相关的产业。



在这些企业的帮助下，他终于突破了193纳米的限制，率先实现了极紫外光源，也就是13.5纳米波长的紫外光，从而一举奠定了自己的领先基础。



而尼康的f2光源失败，从此以后，尼康就只能徘徊在中低端市场，不过认真来说，尼康光刻机的质量还是不错的。



只是作为米国制裁的对象，威华就算购买duv，都是困难重重，不过有着国内的支持，威华换了一个马甲，还是成功订购了五台光刻机。



主要是国内目前并不缺乏duv，中芯还有紫光等很多的厂家，都有着duv的存在。



只不过使用duv，实现7纳米的工艺制程，需要多次曝光，与一次曝光的euv相比，不管是成本，还是加工效率，都是远远不能比的，生产出来的芯片产品，根本就没有多少的竞争力。



这也是米国不限制duv购买的原因