1980年左右，中科院半导体所开始研制jk-1型半自动接近式光刻机，于1981年研制成功两台样机。

而由于美国在50年代就已经拥有了接触式光刻机，相比之下，中国落后了将近20年，同时国外从1978年开始转向分步重复投影光刻，此时中国科学界也认识到，分布投影光刻技术的优越性，但限于国

《逆流1982》第一千二百八十二章 as

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逆流1982

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